迪思科科技上海有限公司
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>>抛光研削磨轮(图)
 
发布时间:2010-1-27 17:41:06
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抛光研削磨轮

在背面研削中,追求高品质加工的新型磨轮Poligrind(抛光性研削磨轮)
在迪思科公司的背面研削用磨轮产品群中又新增加了Poligrind(抛光研削磨轮)产品。通过在纵向切入式研削机的精研削加工轴(Z2轴)上采用Poligrind(抛光研削磨轮),在不需要增加新设备及改变现有生产工艺的条件下,就可改善晶片的精加工表面粗糙度和抗折强度、从而获得更高的加工品质。

特 点
  • 能够在现有的纵向切入式研削机上安装使用。
  • 能够在不改变现有加工工艺的条件下,提高抗折强度等加工品质。
  • 通过采用精细磨粒,获得高品质的精加工表面。
  • 通过采用新开发的结合剂,能够适用于高负荷研削加工。
加工对象
硅晶片、其他材料

适用设备
研削机:DAG800系列、DFG800系列、DFG8000系列、DGP8000系列

用户在使用Poligrind(抛光研削磨轮)时请注意
为了获得更高的加工品质,需要重新设定最佳加工条件。为此本公司的应用技术工程师将根据用户的工件和加工要求,竭诚为客户提供最佳加工方案。

规 格


备注) 尽管已经采用Poligrind的新产品名称,但是旧产品名称仍可继续利用。

与现有Z2轴用研削磨轮相比较的实验数据
通过采用精细磨粒和新开发的结合剂,与原来的Z2轴(精研削加工轴)用磨轮相比较,能够获得更优良的抗折强度和表面粗糙度。

抗折强度(球压式抗折强度测量法)

加工物 : φ8" 镜面硅晶片
Z2轴研削去除量 : 35 µm
最终成品厚度 : 200µm

翘曲度

Z2轴用研削磨轮 Poligrind #2000 B-K09

翘曲度 3.5mm 14.0mm
 
加工物 : φ8" 镜面硅晶片
Z2轴研削去除量 : 35µm
最终成品厚度 : 50µm

表面粗糙度

Z2轴用研削磨轮 Poligrind #2000 B-K09

Ra(µm) 0.0141 0.0240

Rmax(µm) 0.1153 0.1734
 
加工物 : φ8" 镜面硅晶片
Z2轴研削去除量 : 35µm
测量部位 : 晶片的中心部
测量仪器 : 非接触式表面粗糙度测量仪
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